Das strategisch wichtigste Technologieunternehmen der Welt

Die Smartphones, Computer, Systeme der künstlichen Intelligenz, Rechenzentren und sogar modernen Automobile, die wir heute nutzen, funktionieren dank fortschrittlicher Halbleiterchips, die aus Milliarden von Transistoren bestehen. Während Apple, NVIDIA, AMD, Intel, Qualcomm und andere Technologieunternehmen die leistungsfähigsten Prozessoren der Welt entwerfen, hängt die Möglichkeit, diese Prozessoren herzustellen, weitgehend von einer Technologie ab, die von einem einzigen Unternehmen entwickelt wurde: ASML.

ASML mit Sitz in den Niederlanden produziert die fortschrittlichsten Lithografiemaschinen der Welt und ist das einzige Unternehmen, das EUV-Lithografiesysteme (Extreme Ultraviolet) im kommerziellen Maßstab entwickeln kann. Heute kann ein großer Teil der Chips, die in 5-nm-, 3-nm- und noch fortschrittlicheren Fertigungstechnologien eingesetzt werden, dank der von ASML entwickelten Maschinen hergestellt werden. Aus diesem Grund gilt ASML nicht nur als Maschinenhersteller, sondern als der kritischste Technologieanbieter der globalen Halbleiterindustrie.

Wie konnte also ein Unternehmen, das von einem kleinen Team aus nur 31 Personen gegründet wurde, zu einem der strategisch wichtigsten Technologieunternehmen der Welt werden?

Der Weg vom Transistor zu ASML

Um die Bedeutung von ASML zu verstehen, ist es notwendig, einen kurzen Blick auf die Entwicklung der Halbleitertechnologie zu werfen.

Der erste funktionsfähige Transistor, der am 23. Dezember 1947 von Forschern der Bell Labs entwickelt wurde, leitete eine neue Ära in der Welt der Elektronik ein. Transistoren ersetzten Vakuumröhren und ermöglichten die Entwicklung elektronischer Geräte, die kleiner, zuverlässiger und energieeffizienter waren.

Mit der Entwicklung der integrierten Schaltung im Jahr 1958 begannen Hunderte und später Tausende von Transistoren auf einem einzigen Siliziumchip Platz zu finden. Der erste kommerzielle Mikroprozessor, der 1971 von Intel entwickelt wurde, legte die Grundlagen des Computerzeitalters.

Mit dem Fortschritt der Computertechnologie mussten Prozessoren schneller arbeiten, weniger Energie verbrauchen und kleiner werden. Der einzige Weg, dies zu erreichen, bestand darin, deutlich kleinere Transistoren auf einem Siliziumwafer zu platzieren.

Dieser Bedarf führte zur raschen Entwicklung der Lithografietechnologie, die in der Halbleiterfertigung eingesetzt wird.

Vereinfacht gesagt ist Lithografie der Prozess, bei dem ein Chipdesign mithilfe von Licht auf einen Siliziumwafer übertragen wird. Je kleiner die Leiterbahnen auf einem Chip werden, desto höher wird die Prozessorleistung, während der Energieverbrauch sinkt. Dass heute Milliarden von Transistoren auf einer Fläche von nur wenigen Quadratzentimetern untergebracht werden können, wurde größtenteils durch Fortschritte in der Lithografietechnologie ermöglicht. Sich vorzustellen, alle Wolkenkratzer einer Stadt auf dem Kopf einer Stecknadel zu errichten, bringt uns genau an den Punkt, an dem die Geschichte von ASML beginnt.

Die Gründung von ASML

Die Grundlagen von ASML wurden am 1. April 1984 von zwei großen niederländischen Technologieunternehmen gelegt: Philips und ASM International (ASMI).

In den 1970er-Jahren hatte Philips in seinem Forschungslabor NatLab erste Wafer-Stepper-Systeme für den Einsatz in der eigenen Halbleiterfertigung entwickelt. Das Unternehmen verfügte jedoch nicht über die kommerzielle Organisation, die erforderlich war, um diese Technologie auf den Weltmarkt zu bringen.

Zur gleichen Zeit erkannte Arthur del Prado, der Gründer von ASM International, das im Bereich der Halbleiterfertigungsanlagen tätig war, dass sich die von Philips entwickelte optische Technologie in Zukunft zu einem großen Markt entwickeln würde. Auf Initiative von del Prado beschlossen die beiden Unternehmen, ihre Kräfte zu bündeln.

Das neue Unternehmen erhielt den Namen ASM Lithography. Später wurde der Firmenname verkürzt und als ASML verwendet.

Im Rahmen der Partnerschaft übertrug Philips seine Patente, sein technisches Know-how und seine Forschungsinfrastruktur an das Unternehmen, während ASM International Marketingerfahrung, kommerzielle Vision und die erste Kapitalunterstützung bereitstellte.

Von einer undichten Holzhütte zur Weltspitze

Die ersten Jahre von ASML waren sehr schwierig.

Das Unternehmen nahm seinen Betrieb mit nur 31 Mitarbeitern in einem bescheidenen Holzgebäude neben den Philips-Anlagen in Eindhoven auf. Die ersten von ihm entwickelten Lithografiemaschinen erzielten nicht den erwarteten kommerziellen Erfolg. Dennoch stellte das Unternehmen seine Forschungs- und Entwicklungsarbeit nicht ein.

Damals glaubten viele Menschen nicht daran, dass ASML weltweit erfolgreich sein könnte. Der Lithografiemarkt wurde weitgehend von den japanischen Unternehmen Nikon und Canon kontrolliert. Trotzdem gelang es ASML, die Leistung jeder neuen Maschine durch langfristige Investitionen in optische Technik, präzise mechanische Systeme und Softwaretechnologien zu verbessern.

1988 zog sich ASM International aus der Partnerschaft zurück. Philips unterstützte das Unternehmen jedoch weiterhin und beschleunigte seinen Wachstumsprozess. 1995 ging ASML an die Börsen in Amsterdam und New York und zog damit die Aufmerksamkeit internationaler Investoren auf sich.

Das im selben Zeitraum entwickelte Lithografiesystem PAS 5500 wurde zu einem der wichtigsten Meilensteine, die ASML weltweit bekannt machten. Dank seiner hohen Präzision, Produktionsgeschwindigkeit und Zuverlässigkeit wurde diese Maschine von vielen Halbleiterherstellern bevorzugt und stärkte die Position des Unternehmens auf dem Weltmarkt erheblich.

Die Entwicklung, die ASML jedoch wirklich zu einem Weltmarktführer machen sollte, war zu diesem Zeitpunkt noch nicht eingetreten. Martin van den Brink, ein junger Ingenieur, der zu einer der wichtigsten Persönlichkeiten werden sollte, die das Unternehmen in die Zukunft führten, begann in dieser Phase mit seinen innovativen Ideen, die technologische Roadmap von ASML zu verändern.

Martin van den Brink, PAS 5500 und ASMLs Aufstieg zur Weltspitze

Martin van den Brink: Das Technologiegenie von ASML

Der Erfolg eines Technologieunternehmens lässt sich oft nicht allein durch Kapital oder Produktionskapazität erklären. Was manche Unternehmen besonders macht, ist die Anwesenheit von Ingenieuren, die die Zukunft Jahre im Voraus erkennen können. Für ASML war diese Person zweifellos Martin van den Brink.

Kurz nachdem er 1984 sein Studium der Angewandten Physik an der Universität Twente abgeschlossen hatte, trat Van den Brink dem neu gegründeten Unternehmen ASML bei und wurde einer der ersten Ingenieure des Unternehmens. Wer hätte damals geglaubt, dass ASML mit einem kleinen Team von nur 31 Personen eines Tages zu einem der strategisch wichtigsten Technologieunternehmen der Welt werden würde?

Nachdem Van den Brink im Laufe der Jahre innerhalb des Unternehmens aufgestiegen war, wurde er 1995 zum Vice President of Technology und 2013 zum President und Chief Technology Officer (CTO) ernannt.

Van den Brink arbeitete viele Jahre an der Seite von CEO Peter Wennink und wurde zu einer der wichtigsten Persönlichkeiten, die die technologische Vision des Unternehmens prägten. In der Branche ist er als „Mr. ASML“ und als „Zauberer von Veldhoven“ bekannt.

PAS 5500: Die Maschine, die ASMLs Schicksal veränderte

Die Lithografiesysteme, die ASML in seinen Anfangsjahren entwickelte, hatten den erwarteten kommerziellen Erfolg nicht erreicht. Das Unternehmen setzte seine Forschungs- und Entwicklungsarbeit jedoch ununterbrochen fort. Die Lithografiemaschinen der PAS-5500-Serie, die als Ergebnis dieser Bemühungen entwickelt wurden, wurden zu einem der wichtigsten Meilensteine in der Unternehmensgeschichte.

Ab Mitte der 1990er-Jahre benötigten Halbleiterhersteller Systeme, die höhere Präzision, schnellere Produktion und geringere Fehlerraten boten. Die PAS-5500-Serie konnte diesen Bedarf mit ihrer hohen Genauigkeit und Zuverlässigkeit erfüllen.

Die wichtigsten Vorteile der Maschine waren folgende:

  • Die Möglichkeit, Siliziumwafer mit Nanometerpräzision auszurichten,
  • Höhere Fabrikeffizienz dank größerer Produktionsgeschwindigkeit,
  • Geringere Produktionskosten durch niedrigere Fehlerraten,
  • Software- und optische Systeme mit einer kontinuierlich aktualisierbaren Struktur.

Dank dieses Erfolgs begann ASML, die Aufmerksamkeit großer Halbleiterhersteller nicht nur in Europa, sondern auch in Taiwan, Südkorea und den Vereinigten Staaten auf sich zu ziehen.

Die PAS-5500-Serie etablierte ASML als zuverlässiges Technologieunternehmen auf dem Weltmarkt und schuf eine wichtige finanzielle Grundlage für die EUV-Lithografiesysteme, die das Unternehmen später entwickeln sollte.

Der Wettbewerb mit Nikon und Canon

In den 1990er-Jahren waren die ersten Unternehmen, die einem beim Begriff Lithografiemaschinen in den Sinn kamen, die japanischen Unternehmen Nikon und Canon. Ein großer Teil der Lithografiesysteme, die insbesondere bei der Herstellung von DRAM-Speichern und Mikroprozessoren eingesetzt wurden, wurde von diesen beiden Unternehmen produziert.

ASML hingegen war hinsichtlich des Marktanteils ein sehr kleiner Akteur. Da die Transistoren in der Halbleiterindustrie jedoch immer kleiner wurden, näherte sich die bestehende DUV-Lithografietechnologie (Deep Ultraviolet) ihren physikalischen Grenzen. Um kleinere Schaltungen herstellen zu können, wurde eine völlig neue Technologie benötigt.

Diese Technologie sollte später als EUV-Lithografie (Extreme Ultraviolet) entwickelt werden.

Warum zog ASML an der Konkurrenz vorbei?

Die EUV-Technologie gilt als eines der schwierigsten Ingenieurprojekte, mit denen die Halbleiterindustrie je konfrontiert war.

Um dieses System zu entwickeln, mussten;

  • Eine neue Lichtquelle, deren Herstellung irgendwo auf der Welt unmöglich schien,
  • Optische Spiegel mit scheinbar unmöglicher Präzision,
  • Eine Vakuumumgebung, die dem Weltraum nahekommt,
  • Mechanische Systeme, die sich im Nanometerbereich bewegen,
  • Fortschrittliche Softwarealgorithmen,

alle innerhalb derselben Maschine fehlerfrei zusammenarbeiten.

Dieses Projekt erforderte Investitionen in Milliardenhöhe. Während Nikon und Canon es vorzogen, ihre starken Positionen in bestehenden DUV-Technologien zu bewahren, investierten sie nur begrenzte Mittel in die Entwicklung von EUV. ASML hingegen ging ein großes Risiko ein und investierte fast zwanzig Jahre lang ununterbrochen in diese Technologie.

Während dieses Prozesses verließ sich das Unternehmen nicht ausschließlich auf sein eigenes Ingenieurteam. Es entwickelte mit Carl Zeiss in Deutschland die präzisesten optischen Systeme der Welt, brachte die EUV-Lichtquellentechnologie durch die Übernahme des US-amerikanischen Unternehmens Cymer unter seine Kontrolle und schuf mit Tausenden von Zulieferern auf der ganzen Welt ein gemeinsames Technologieökosystem.

Heute produzieren Nikon und Canon weiterhin DUV-Lithografiesysteme. ASML ist jedoch das einzige Unternehmen, das EUV-Lithografiemaschinen im kommerziellen Maßstab entwickeln kann. Aus diesem Grund nutzen die weltweit fortschrittlichsten Halbleiterhersteller TSMC, Samsung und Intel die Systeme von ASML in ihren modernsten Fertigungstechnologien.

Die eigentliche Entwicklung, die ASML zu einem echten globalen Technologieführer machte, war die erfolgreiche Kommerzialisierung der EUV-Lithografietechnologie. Diese Technologie veränderte nicht nur die Zukunft des Unternehmens, sondern auch die Zukunft der gesamten Halbleiterindustrie.

Die Erfindung, die ASML weltweit einzigartig macht

„EUV-Lithografietechnologie“

Die wichtigste Entwicklung, die ASML zu einem der strategisch wichtigsten Technologieunternehmen der Welt machte, war sein kommerzieller Erfolg mit der EUV-Lithografietechnologie (Extreme Ultraviolet).

Heute wird die EUV-Lithografietechnologie bei der Herstellung fortschrittlicher Chips mit Milliarden von Transistoren eingesetzt, beispielsweise bei Apples A-Serie-Prozessoren, NVIDIAs Beschleunigern für künstliche Intelligenz, AMDs Ryzen-Prozessoren und Intels Prozessoren der nächsten Generation.

Warum ist diese Technologie also so wichtig?

Wo liegen die Grenzen der DUV-Technologie?

Viele Jahre lang wurden in der Halbleiterfertigung DUV-Lithografiesysteme (Deep Ultraviolet) eingesetzt. Die DUV-Technologie übertrug Schaltungen mithilfe von Licht mit einer Wellenlänge von 193 Nanometern auf Siliziumwafer.

Als die Transistoren jedoch kleiner wurden, standen Ingenieure vor einem großen Problem. Die Wellenlänge des verwendeten Lichts war deutlich größer geworden als die Schaltungen, die hergestellt werden sollten. Infolgedessen musste dasselbe Muster mehrfach belichtet werden, was den Produktionsprozess verlangsamte und die Kosten erhöhte.

Damit der von Moore’s Law vorhergesagte Fortschritt weitergehen konnte, musste eine neue Lichttechnologie mit einer deutlich kürzeren Wellenlänge entwickelt werden.

Was ist EUV-Technologie?

EUV-Lithografie ist eine fortschrittliche Fertigungstechnologie, die Chipdesigns mithilfe von extrem ultraviolettem Licht mit einer Wellenlänge von 13,5 Nanometern auf Siliziumwafer überträgt.

Da die Wellenlänge deutlich kürzer ist, können wesentlich feinere Leiterbahnen in einer einzigen Belichtung erzeugt werden. Dies ermöglicht kleinere Transistoren, eine höhere Prozessorleistung und einen geringeren Energieverbrauch.

Mit anderen Worten: Die EUV-Technologie ist die grundlegende Fertigungsmethode, die es modernen Prozessoren ermöglicht, Milliarden von Transistoren auf einer Fläche von nur wenigen Quadratzentimetern unterzubringen.

Wie funktioniert eine EUV-Lithografiemaschine?

Obwohl sie auf den ersten Blick wie eine Chipfertigungsmaschine aussehen mag, ist das EUV-System von ASML in Wirklichkeit ein riesiges optisches Labor, das mit extremer Präzision arbeitet.

Die Aufgabe der Maschine besteht nicht darin, Chips herzustellen. Ihre Aufgabe besteht darin, ein Prozessordesign mithilfe von Licht mit Nanometerpräzision auf einen Siliziumwafer zu übertragen. Dieser Prozess erfolgt in vier Hauptschritten.

1. Erzeugung von EUV-Licht

EUV-Licht kommt in der Natur nicht in einer nutzbaren Form vor. Außerdem kann es in einer normalen Umgebung nicht übertragen werden, da es leicht von Luft absorbiert wird. Aus diesem Grund erzeugt ASML dieses Licht selbst im Inneren der Maschine. In der Maschine werden pro Sekunde etwa 50.000 mikroskopisch kleine Zinntröpfchen erzeugt. Einer der leistungsstärksten industriellen Kohlendioxidlaser der Welt feuert zweimal auf diese Tröpfchen.

Der erste Laserpuls flacht das Tröpfchen ab, während der zweite Puls es in ein Plasma verwandelt, das eine Temperatur von etwa 200.000 °C erreicht.

Und dieses Plasma erzeugt EUV-Licht mit einer Wellenlänge von 13,5 Nanometern.

2. Die präzisesten Spiegel der Welt

Da EUV-Licht nicht durch gewöhnliches Glas dringen kann, können herkömmliche Linsen nicht verwendet werden. Aus diesem Grund nutzt ASML spezielle reflektierende Spiegel, die von Carl Zeiss mit Sitz in Deutschland entwickelt wurden.

Diese Spiegel gelten als einige der präzisesten optischen Oberflächen, die je von Menschen hergestellt wurden. Die Unregelmäßigkeiten auf ihren Oberflächen liegen auf atomarer Ebene. Würde einer dieser Spiegel auf die Größe Deutschlands vergrößert, wäre der größte Defekt auf seiner Oberfläche nur wenige Millimeter groß.

3. Übertragung des Chipdesigns auf die Maske

Das fokussierte Licht erreicht anschließend eine spezielle Vorlage, die Reticle oder Maske genannt wird. Diese Maske enthält das Schaltungsdesign des herzustellenden Prozessors. Nachdem das EUV-Licht von der Maske reflektiert wurde, trägt es die Muster mit sich, die die Milliarden von Transistoren des Prozessors bilden.

4. Belichtung des Siliziumwafers

Im letzten Schritt wird das Licht auf einen Siliziumwafer projiziert, der mit einer lichtempfindlichen Chemikalie namens Photoresist beschichtet ist. Dieser Prozess wird für jede Schicht wiederholt, und schließlich entsteht die Struktur eines modernen Prozessors, der aus Milliarden von Transistoren besteht.

High-NA EUV: Lithografie der nächsten Generation

Da sich die Halbleitertechnologie weiterentwickelt, haben auch bestehende EUV-Systeme begonnen, sich ihren physikalischen Grenzen zu nähern.

Aus diesem Grund entwickelte ASML Lithografiesysteme der nächsten Generation, die High-NA EUV (High Numerical Aperture EUV) genannt werden.

Da die in diesen Maschinen verwendeten optischen Systeme Licht in einem größeren Winkel fokussieren können, steigt die Auflösung erheblich. Dadurch wird es in Zukunft möglich sein, Fertigungstechnologien von 2 Nanometern und kleiner kommerziell umzusetzen.

Ein einzelnes High-NA-EUV-System kostet etwa 400 Millionen US-Dollar. Diese Maschinen wiegen rund 180 Tonnen, bestehen aus Hunderttausenden von Teilen und benötigen Monate für die Installation.

Warum kann kein anderes Unternehmen dieselbe Maschine herstellen?

Eine EUV-Lithografiemaschine ist nicht einfach nur ein mechanisches Gerät. Sie erfordert, dass Lasertechnologie, optische Technik, Vakuumsysteme, Präzisionsrobotik, elektronische Steuerungssysteme, Software und Materialwissenschaft auf derselben Plattform fehlerfrei zusammenarbeiten.

ASML hat dieses System nicht allein entwickelt. Das Unternehmen arbeitet mit Tausenden spezialisierten Zulieferern in verschiedenen Ländern der Welt zusammen.

Während Carl Zeiss in Deutschland die optischen Systeme entwickelt, produziert TRUMPF die Hochleistungslaser. Cymer in den Vereinigten Staaten liefert die EUV-Lichtquelle, während Edwards Vacuum die Vakuumsysteme entwickelt. Auch japanische Unternehmen leisten wichtige Beiträge bei Fotomasken und kritischen Chemikalien.

Heute bestehen die fortschrittlichen Lithografiemaschinen von ASML aus mehr als 700.000 Teilen und mehr als 5.000 Zulieferer sind an ihrer Produktion beteiligt.

Aus diesem Grund reicht es für ein neues Unternehmen nicht aus, ein ähnliches System nur mit einem großen Budget zu entwickeln. Es muss außerdem über über Jahrzehnte angesammeltes technisches Know-how, eine globale Lieferkette und ein multidisziplinäres Technologieökosystem verfügen.

ASMLs Rolle im globalen Halbleiterökosystem

Dank der Lithografiemaschinen, die ASML entwickelt hat, ist das Unternehmen zum kritischsten Technologieanbieter der Halbleiterindustrie geworden. ASML stellt jedoch keine eigenen Prozessoren her. Stattdessen liefert es die Lithografiesysteme, die bei der Chipfertigung eingesetzt werden, an die fortschrittlichsten Halbleiterhersteller der Welt.

Heute basieren 5-Nanometer-, 3-Nanometer- und noch fortschrittlichere Fertigungsprozesse weitgehend auf der von ASML entwickelten EUV-Lithografietechnologie. Aus diesem Grund beeinflusst der Erfolg von ASML nicht nur das eigene Wachstum, sondern direkt auch den Fortschritt der gesamten Halbleiterbranche.

Warum vertrauen TSMC, Samsung und Intel auf ASML?

Heute nutzen die weltweit fortschrittlichsten Halbleiterhersteller TSMC, Samsung Electronics und Intel die Lithografiesysteme von ASML, um ihre Fertigungstechnologien weiterzuentwickeln.

TSMC fertigt Prozessoren, die von vielen Technologieunternehmen wie Apple, NVIDIA, AMD, Qualcomm und Broadcom entworfen werden. Samsung Electronics produziert sowohl eigene Prozessoren als auch Chips für externe Kunden, während Intel seit Langem eines der größten Halbleiterunternehmen ist, das seine eigenen Prozessoren entwickelt und herstellt.

Obwohl diese drei Unternehmen intensiv miteinander konkurrieren, haben sie einen gemeinsamen Punkt: Für die fortschrittlichsten Fertigungsprozesse benötigen sie die von ASML entwickelten EUV-Systeme.

Aus diesem Grund ist ASML kein Unternehmen, das mit Chipherstellern konkurriert; es ist der zentrale Technologieanbieter, der ihnen die Chipfertigung ermöglicht.

ASMLs globale Lieferkette

Eine EUV-Lithografiemaschine ist eines der komplexesten technischen Systeme, die je von Menschen hergestellt wurden.

ASML produziert nur bestimmte Teile dieser Maschinen in seinen eigenen Anlagen. Der Rest der Maschine besteht aus fortschrittlichen Technologiekomponenten, die in verschiedenen Ländern der Welt entwickelt werden.

Carl Zeiss mit Sitz in Deutschland entwickelt optische Systeme, während TRUMPF Hochleistungslasertechnologien produziert. Cymer mit Sitz in den USA liefert die EUV-Lichtquelle, und Edwards Vacuum entwickelt Vakuumsysteme. Japanische Unternehmen leisten wichtige Beiträge bei Fotomasken und Präzisionschemikalien für die Fertigung.

Insgesamt tragen mehr als 5.000 Zulieferer zur Produktion eines EUV-Lithografiesystems bei, das aus rund 700.000 Teilen besteht.

Dieses globale Kooperationsmodell ist einer der wichtigsten Gründe für die technologische Führungsposition von ASML.

Der US-chinesische Chipkrieg und ASML

In den letzten Jahren ist die Halbleitertechnologie nicht nur wirtschaftlich, sondern auch geopolitisch zu einem strategischen Bereich geworden.

Die von den Vereinigten Staaten verhängten Beschränkungen für den Export fortschrittlicher Technologie nach China haben ASML in den Mittelpunkt des globalen Chipwettbewerbs gerückt.

Im Rahmen der von der niederländischen Regierung eingeführten Exportkontrollen wurde ASML der Verkauf seiner fortschrittlichsten EUV-Lithografiesysteme nach China untersagt. In den letzten Jahren sind auch für bestimmte fortschrittliche DUV-Systeme zusätzliche Exportlizenzen verpflichtend geworden.

Diese Entwicklungen zeigen, dass die Halbleitertechnologie nicht länger nur ein kommerzieller Sektor ist, sondern auch strategische Bedeutung für die wirtschaftliche Sicherheit, die Verteidigungsindustrie und Investitionen in künstliche Intelligenz von Staaten hat.

Trotzdem unterstützt die weltweit schnell wachsende Nachfrage nach Anwendungen der künstlichen Intelligenz weiterhin das langfristige Wachstum von ASML.

Fazit

Der erste Transistor, der 1947 entwickelt wurde, markierte den Beginn einer neuen Ära in der Welt der Elektronik. Darauf folgten integrierte Schaltungen, Mikroprozessoren und Fertigungstechnologien im Nanometermaßstab. In jeder Phase dieses technologischen Fortschritts bestand der Bedarf, kleinere, leistungsfähigere und effizientere Chips herzustellen.

Genau hier zeigt sich die Bedeutung von ASML.

Das Unternehmen ist nicht bloß ein Hersteller von Lithografiemaschinen. Durch die von ihm entwickelten Technologien ist es zu einem der grundlegenden Bausteine geworden, die den Fortschritt der modernen Halbleiterindustrie möglich machen.

Heute kann ein großer Teil der fortschrittlichen Halbleiter, die in allem von Smartphones bis zu Supercomputern, von Systemen der künstlichen Intelligenz bis zu Rechenzentren, von Elektrofahrzeugen bis zu medizinischen Geräten eingesetzt werden, dank der von ASML entwickelten Lithografietechnologien hergestellt werden.

Da die Halbleiterindustrie weiterhin kleinere Transistoren, leistungsfähigere Systeme der künstlichen Intelligenz und Computertechnologien der nächsten Generation entwickelt, wird die strategische Rolle von ASML im globalen Technologieökosystem weiterhin von großer Bedeutung bleiben.

Quellen

  1. ASML. Our History. https://www.asml.com/en/company/about-asml/history
  2. ASML. Making EUV: From Lab to Fab. https://www.asml.com/en/en/news/stories/2022/making-euv-lab-to-fab
  3. ASML. 5 Things You Should Know About High-NA EUV Lithography. https://www.asml.com/en/en/news/stories/2024/5-things-high-na-euv
  4. ZEISS Semiconductor Manufacturing Technology. High-NA EUV Lithography: New Technology for Global Microchip Production.
  5. ZEISS Semiconductor Manufacturing Technology. 30 Years of ZEISS EUV Lithography Optics.
  6. Gordon E. Moore. Cramming More Components onto Integrated Circuits. Electronics
  7. Chris Miller. Chip War: The Fight for the World’s Most Critical Technology. Scribner, 2022.
  8. Walter Isaacson. The Innovators. Simon & Schuster, 2014.